昆山超聲波清洗器幾種常見的溫控方式和清洗方式

1、數(shù)控面板加熱

一般實驗室用的數(shù)控超聲波清洗器，帶有加熱功能的機型，就是數(shù)控按鍵加熱。數(shù)控區(qū)顯示當前溫度，可以設定溫度值，當達到加熱值是自動停止加熱。此種加熱一般是用硅膠板加熱。

2、溫控儀加熱

分體超聲波清洗器根據(jù)使用情況有用溫控儀加熱，使用方法如下：按下加熱開關，溫控儀將顯示測量溫度與控制溫度。上面顯示的是測量溫度，下面顯示的是控制溫度，當測量溫度低于控制溫度時，溫控儀上out燈亮，加熱指示燈亮，設備處于加熱狀態(tài);當測量溫度高于控制溫度時，溫控儀上out燈滅，加熱指示燈熄滅，設備停止加熱。控制溫度設置方法：按撥碼鍵設定控制溫度，控制溫度為58度。此種一般是用加熱管加熱。

3、機械溫控

普通臺式超聲波清洗器一般用機械溫控，也就是旋鈕調(diào)節(jié)溫度，溫度調(diào)節(jié)范圍為常溫-80度。

昆山超聲波清洗器常見的幾種清洗方式：

1、溶劑清洗

比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用;但缺點也比較明顯，由于光學玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。

2、半水基清洗

近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝，它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng);設備上的配套裝置更少;使用周期比溶劑要更長;在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑zui為突出的一個優(yōu)點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。 它的缺點就是清洗的速度比溶劑稍慢，并且必須要進行漂洗。

3、鍍膜前清洗

鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油，求芯也稱定芯、取芯，指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序)、手印、灰塵等。由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。

鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式，分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學藥劑類型如前所述。

4、鍍膜后清洗

一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗，其中接合前清洗(接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規(guī)定的形狀，以滿足無法一次加工成型的需求，或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序)要求zui為嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求，其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。